原裝進口EBARA 荏原 G5-350 A1-A4 燃燒式廢氣處理器

2025/03/13 09:36:06

G5 系列

可燃性氣體和溫室氣體（PFC）氣體的高效處理、燃燒式廢氣處理裝置

燃燒廢氣處理系統(tǒng)

多種氣體的批處理

PFC 氣體的高效處理

副產(chǎn)品對策和粉末自動卸料功能

運行成本低

正常運行時間長

根據(jù)氣體類型和體積按需運行

提高可維護性

提供 CE 標志/SEMI-S2/NRTL

產(chǎn)品介紹

G5 是一種燃燒式廢氣處理系統(tǒng)，能夠高效處理制造過程中使用的各種氣體。可以一次處理多種氣體，并且可以高效處理通常難以處理的 PFC 氣體。通過我們的副產(chǎn)品對策和根據(jù)要處理的氣體類型和數(shù)量按需（可變?nèi)剂瞎?yīng)）作來降低運行成本。它非常適合用于半導體、液晶面板、太陽能電池和 LED 等電子元件的制造、化學和材料制造商以及各種實驗室。還提供*流量為 1,200 L/min 的大流量型。

規(guī)范

型	單位	G5-350 A1~A4/P1~P4	G5-500 A1~A4/P1~P4	G5-600 A1~A4/P1~P4	G5-1200 A1~A4/P1~P4
加工方法		燃燒 + 濕式	燃燒 + 濕式	燃燒 + 濕式	燃燒 + 濕式
*進氣量	升/分鐘	350	500	600	1200
燃料		城市燃氣/丙烷氣選擇	城市燃氣/丙烷氣選擇	城市燃氣/丙烷氣選擇	城市燃氣/丙烷氣選擇
大小	寬 x 深 x 高 mm	1,200 x 650 x 1,900	1,200 x 650 x 1,900	1,200 x 1,100 x 2,000	1,200 x 1,100 x 2,200
可處理氣體示例		工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等一般清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等一般蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。	工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等一般清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等一般蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。	工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等一般清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等一般蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。	工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等一般清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等一般蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
標準設(shè)備		除粉 vernas 刮刀	除粉 vernas 刮刀	除粉 vernas 刮刀	除粉 vernas 刮刀
選擇		市政水和廢水消耗減少裝置	市政水和廢水消耗減少裝置	市政水和廢水消耗減少裝置	市政水和廢水消耗減少裝置

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原裝進口EBARA 荏原 G5-350 A1-A4 燃燒式廢氣處理器

G5 系列

可燃性氣體和溫室氣體 （PFC） 氣體的高效處理、燃燒式廢氣處理裝置

產(chǎn)品介紹

規(guī)范

可燃性氣體和溫室氣體（PFC）氣體的高效處理、燃燒式廢氣處理裝置