XHEMIS EX-2000 概述

?通過調(diào)整新方法的角度縮短了對(duì)準(zhǔn)時(shí)間。

使用 X 射線反射進(jìn)行角度調(diào)整可提供快速準(zhǔn)確的樣品傾斜校正。

?評(píng)估晶片內(nèi)表面分布

在對(duì)薄膜厚度的面內(nèi)分布進(jìn)行 X 射線分析時(shí)，晶圓高度調(diào)整很重要。 配備適用于各種薄膜類型的高速 Z 軸對(duì)準(zhǔn)功能，可實(shí)現(xiàn)高精度晶圓表面映射測(cè)量。

?應(yīng)用

FEOL： CoSix， NiSix， SiGe， High-κ film， Al...
BEOL：阻擋金屬、Ta/TaN、Ti/TiN、Cu 種子、Cu 電鍍、W...
它用于各種工藝，例如各種類型和厚度的膜。

?全自動(dòng)設(shè)備日常管理功能 AutoCal

為了獲得準(zhǔn)確穩(wěn)定的 XRR 和 XRF 測(cè)量分析值，有必要定期檢查和控制光學(xué)系統(tǒng)、X 射線源和探測(cè)器。 該設(shè)備配備了“AutoCal”功能，可以完全自動(dòng)執(zhí)行這些日常管理。 減少作員的工作量。

- 用戶友好的作屏幕

它基于其他型號(hào)也使用的成熟軟件實(shí)現(xiàn)了多種功能，并配備了不需要復(fù)雜分析的* XRR 薄膜厚度和密度分析軟件，可以通過簡(jiǎn)單的作執(zhí)行從測(cè)量到分析的所有作。

?支持 C-to-C 自動(dòng)輸送

兼容 200mm~100mm 晶圓的開放盒的自動(dòng)轉(zhuǎn)移。 （可選）
- 支持在線通信功能SECS
可與主機(jī)通信。 與各種 CIM/FA 兼容。 （可選）

XHEMIS EX-2000

X 射線膜厚和密度測(cè)量系統(tǒng) XHEMIS EX-2000

使用 X 射線熒光 （XRF） 和 X 射線反射 （XRR） 的非接觸式、非破壞性薄膜厚度和密度測(cè)量系統(tǒng)

新的 XRR 光學(xué)元件和新開發(fā)的信號(hào)處理實(shí)現(xiàn)了高吞吐量和高動(dòng)態(tài)范圍

通過采用新開發(fā)的帶有高速探測(cè)器的光學(xué)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了高通量 XRR 測(cè)量 （15-25 WPH）。 此外，通過應(yīng)用特殊的信號(hào)處理，可以獲得清晰、高動(dòng)態(tài)范圍的頻譜，而且噪聲很小。

  詢價(jià)詢問有關(guān)產(chǎn)品的問題